1. 介紹軟件
1.1 運行程序
1.2 創(chuàng)建一個簡單的設計
1.3 繪圖和制表來表示性能
1.4 3D繪圖-用兩個變量繪圖表示性能
1.5 創(chuàng)建一個默認設計
1.6 文件位置
2. 通過剪貼板和文件導入導出數(shù)據(jù)
3. 約定-程序中使用的各種術(shù)語的定義
3.1 厚度(物理厚度,光學厚度[FWOT,QWOT],幾何厚度)
3.2 單位定義
3.3 軟件如何進行數(shù)據(jù)插值
3.4 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
4. 特定設計的公式技術(shù)
5. 交互式繪圖
6. 薄膜設計技術(shù):設計不同類型薄膜
6.1 抗反射膜
6.2 短波通/長波通濾波片
6.3 帶通濾波片
6.4 斜入射薄膜
6.5 優(yōu)化
6.5.1 目標
6.5.2 方法(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
6.5.3 鎖定和關(guān)聯(lián)膜層
6.6 包含基底影響
6.7 錐角和帶寬計算
6.8 簡單的公差
6.9 顏色模型(tristimulus, chromaticity, CIE L*A*B*, CIE L*U*V*, dominant wavelength)
7. 光學常數(shù)推導
7.1 測量vs模型擬合
7.2 用包絡法推導介質(zhì)膜的光學常數(shù)
7.3 利用光譜儀的測量值計算基底的光學常數(shù)
7.4 推導金屬薄膜和其它吸收膜的光學常數(shù)
8. 反演工程
8.1 鍍膜過程中兩種主要的誤差(系統(tǒng)誤差和隨機誤差)
8.2 使用反演工程來控制對設計的搜索,該設計代表實際生產(chǎn)的產(chǎn)品。
8.3 多個解問題的探索
9. Runsheet:使用光學監(jiān)控計算沉積過程中的預期信號
9.1 簡單光控的描述
9.2 Tooling Factors
9.3 Machine Configuration-指定鍍膜設備的功能
9.4 Runsheet-顯示鍍膜過程中預期的監(jiān)測信號
9.5 案例-截至濾光片
10. Report Generator
10.1 定制打印輸出
10.2 可用于控制打印輸出的指令包括:
10.2.1 頁面
10.2.2 表格
10.2.3 繪圖
10.2.4 其它文件和數(shù)據(jù)源的信息
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