1. 軟件基礎(chǔ)入門(mén)
軟件簡(jiǎn)介
軟件計(jì)算方法簡(jiǎn)介
程序基本框架和全局參數(shù)設(shè)置
程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義
2. 圖表
繪圖和制表來(lái)表示性能
3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能
交互式繪圖的使用
3. 材料管理
材料的獲取
材料的導(dǎo)入與導(dǎo)出
材料數(shù)據(jù)平滑與插值
用包絡(luò)法推導(dǎo)介質(zhì)膜的光學(xué)常數(shù)
利用光譜儀的測(cè)量值計(jì)算基底光學(xué)常數(shù)
材料模型擬合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
4. 薄膜設(shè)計(jì)與優(yōu)化簡(jiǎn)介
優(yōu)化與合成功能說(shuō)明
優(yōu)化目標(biāo)&評(píng)價(jià)函數(shù)(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
膜層鎖定和鏈接
減反膜優(yōu)化
高反膜優(yōu)化
濾光片優(yōu)化
斜入射光學(xué)薄膜
5. 反演工程
鍍膜過(guò)程中兩種主要的誤差(系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差)
使用反演工程來(lái)控制對(duì)設(shè)計(jì)的搜索,該設(shè)計(jì)代表實(shí)際生產(chǎn)的產(chǎn)品
6. 分析工具
顏色模型和分析工具
公差工具和良品率預(yù)估
靈敏度分析
7. 附加模塊-Vstack
非平行平面鍍膜
棱鏡鍍膜透反吞吐量評(píng)估
8. 附加模塊-DWDM
光通信用窄帶濾光片模擬
9. 附加模塊-Runsheet&Simulator
光控機(jī)器設(shè)置顯示鍍膜過(guò)程中預(yù)期的監(jiān)測(cè)信號(hào)
鍍膜沉積過(guò)程噪聲信號(hào)模擬
10. 附加模塊-Function
如何在Function中編寫(xiě)腳本
案例:自定義畫(huà)圖
案例:太陽(yáng)能抗反射薄膜分析
案例:膜厚變化顏色變化
課程安排
|